Plasma Science & Technology

Plasma Science & Technology

等离子科技

  • 2区 中科院分区
  • Q3 JCR分区

期刊简介

《Plasma Science & Technology》是由IOP Publishing Ltd.出版社于1999年创办的英文国际期刊(ISSN: 1009-0630,E-ISSN: 2058-6272),该期刊长期致力于物理:流体与等离子体领域的创新研究,主要研究方向为物理-物理:流体与等离子体。作为SCI、SCIE收录期刊(JCR分区 Q3,中科院 2区),本刊采用OA未开放获取模式(OA占比0%),以发表物理:流体与等离子体领域等方向的原创性研究为核心(研究类文章占比100.00%%)。凭借严格的同行评审与高效编辑流程,期刊年载文量精选控制在168篇,确保学术质量与前沿性。成果覆盖Web of ScienceWeb of Science、Scopus等国际权威数据库,为学者提供推动物理与天体物理领域高水平交流平台。

投稿咨询

投稿提示

Plasma Science & Technology审稿周期约为约4.5个月。该刊近年未被列入国际预警名单,年发文量约168篇,录用竞争适中,主题需确保紧密契合物理与天体物理前沿。投稿策略提示:避开学术会议旺季投稿以缩短周期,语言建议专业润色提升可读性。

  • 物理与天体物理 大类学科
  • English 出版语言
  • 是否预警
  • SCI、SCIE 期刊收录
  • 168 发文量

中科院分区

《新锐期刊分区表》(2026年3月发布)

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
物理与天体物理
2区
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体
2区

期刊分区表(2025年3月升级版)

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
物理与天体物理
3区
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体
4区

期刊分区表(2023年12月升级版)

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
物理与天体物理
3区
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体
4区

期刊分区表(2022年12月升级版)

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
物理与天体物理
3区
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体
3区

期刊分区表(2021年12月升级版)

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
物理与天体物理
2区
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体
2区

JCR分区

2025-2026年最新版

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 29 / 43

33.7

学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 22 / 43

50

2024-2025年最新版

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 24 / 41

42.7

学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 18 / 41

57.32

2023-2024年最新版

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 26 / 40

36.3

学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 19 / 40

53.75

CiteScore(2026年6月最新版)

CiteScore SJR SNIP CiteScore 排名
CiteScore:3.6 SJR:0.369 SNIP:0.801
学科类别 分区 排名 百分位
大类:Physics and Astronomy 小类:Condensed Matter Physics Q3 235 / 446

47%

期刊发文

  • Implementation of a free-boundary equilibrium solver for the cloverleaf configuration and its implications for X-point radiator

    Author: Kuang, Jun; Yang, Jinhong; Ren, Zhenzhen; Zhang, Peijie; Wang, Yiqing; Wang, Weihua

    Journal: PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY. 2026; Vol. 28, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1088/2058-6272/ae4a8c

  • A hybrid machine learning approach for classifying spectrally similar soils using laser-induced breakdown spectroscop

    Author: Zheng, Weinan; Gao, Xun; Yu, Hailong; Guo, Lianbo; Wang, Qiuyun

    Journal: PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY. 2026; Vol. 28, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1088/2058-6272/ae3f8e

  • Experimental investigation of the dual- frequency effects in helicon plasmas on the PPT devic

    Author: Yuan, Ruixin; Zhang, Zuyu; Chen, Geyi; Wu, Mingyang; Xu, Tianchao; Xiao, Chijie

    Journal: PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY. 2026; Vol. 28, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1088/2058-6272/ae2faf

  • Design of a 210 GHz MW-level long-pulse gyrotron for electron cyclotron resonance heating applicatio

    Author: Hu, Linlin; Huang, Qili; Hu, Peng; Xiang, Yongfei; Zhuo, Tingting; Gong, Shenggang; Jiang, Yi; Sun, Dimin; Ma, Guowu

    Journal: PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY. 2026; Vol. 28, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1088/2058-6272/ae42b0

  • Effect of electric field configuration on EUV-induced plasma dynamic

    Author: Han, Xing; Fu, Yangyang

    Journal: PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY. 2026; Vol. 28, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1088/2058-6272/ae35fd

  • Effects of sheath modes in the high-voltage Hall effect thruster discharge channel by 2D axial-radial particle-in-cell simulation

    Author: Luo, Xin; Zhang, Fengkui; Guan, Ben; Huo, Yan

    Journal: PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY. 2026; Vol. 28, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1088/2058-6272/ae4459

  • Thermal plasma enhanced processes: a versatile platform for advanced powder synthesis and functionalizatio

    Author: Bai, Liuyang; Wang, Hongbing; Liu, Meiping; Liang, Yunting; Yang, Zongxian; Ouyang, Yuge; Yang, Yunxiao; Yuan, Fangli

    Journal: PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY. 2026; Vol. 28, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1088/2058-6272/ae400a

  • Influence of 12C cross-section data on the simulated performance of diamond detectors in D-T fusion neutron diagnostic

    Author: Yu, Tao; Li, Yunhe; Xu, Andong; Zhang, Jiayi; Liu, Zishi; Xu, Xutao; Fan, Tieshuan; Wan, Baonian; Zhong, Guoqiang; Li, Xiangqing

    Journal: PLASMA SCIENCE & TECHNOLOGY. 2026; Vol. 28, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1088/2058-6272/ae4e83