Micron

Micron

美光

  • 3区 中科院分区
  • Q2 JCR分区

期刊简介

《Micron》是由Elsevier Ltd出版社于1993年创办的英文国际期刊(ISSN: 0968-4328,E-ISSN: 1878-4291),该期刊长期致力于显微镜技术领域的创新研究,主要研究方向为工程技术-显微镜技术。作为SCI、SCIE收录期刊(JCR分区 Q2,中科院 3区),本刊采用OA未开放获取模式(OA占比%),以发表显微镜技术领域等方向的原创性研究为核心(研究类文章占比97.62%%)。凭借严格的同行评审与高效编辑流程,期刊年载文量精选控制在126篇,确保学术质量与前沿性。成果覆盖Web of ScienceWeb of Science、Scopus等国际权威数据库,为学者提供推动工程技术领域高水平交流平台。

投稿咨询

投稿提示

Micron审稿周期约为约3.0个月。该刊近年未被列入国际预警名单,年发文量约126篇,录用竞争适中,主题需确保紧密契合工程技术前沿。投稿策略提示:避开学术会议旺季投稿以缩短周期,语言建议专业润色提升可读性。

  • 工程技术 大类学科
  • English 出版语言
  • 是否预警
  • SCI、SCIE 期刊收录
  • 126 发文量

中科院分区

《新锐期刊分区表》(2026年3月发布)

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
工程技术
3区
MICROSCOPY 显微镜技术
3区

期刊分区表(2025年3月升级版)

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
工程技术
3区
MICROSCOPY 显微镜技术
3区

期刊分区表(2023年12月升级版)

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
工程技术
3区
MICROSCOPY 显微镜技术
3区

期刊分区表(2022年12月升级版)

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
工程技术
4区
MICROSCOPY 显微镜技术
3区

期刊分区表(2021年12月升级版)

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
工程技术
4区
MICROSCOPY 显微镜技术
3区

JCR分区

2025-2026年最新版

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:MICROSCOPY SCIE Q2 3 / 8

68.8

学科:MICROSCOPY SCIE Q1 1 / 8

93.75

2024-2025年最新版

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:MICROSCOPY SCIE Q1 2 / 8

81.3

学科:MICROSCOPY SCIE Q1 1 / 8

93.75

2023-2024年最新版

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:MICROSCOPY SCIE Q1 2 / 8

81.3

学科:MICROSCOPY SCIE Q1 1 / 8

93.75

CiteScore(2026年6月最新版)

CiteScore SJR SNIP CiteScore 排名
CiteScore:4.5 SJR:0.563 SNIP:0.936
学科类别 分区 排名 百分位
大类:Biochemistry, Genetics and Molecular Biology 小类:Structural Biology Q3 27 / 51

48%

大类:Biochemistry, Genetics and Molecular Biology 小类:Cell Biology Q3 195 / 289

32%

期刊发文

  • GCI: A generative CT interpolation model for rapid wood CT scannin

    Author: Wang, Peiran; Shen, Hao; Xiong, Fuquan; Yu, Min; Liu, Shengquan

    Journal: MICRON. 2026; Vol. 205, Issue , pp. -. DOI: 10.1016/j.micron.2026.104023

  • Experimentally-validated multi-slice simulation of electron diffraction pattern

    Author: Xiao, Xinke; Ma, Tianle; Shao, Lingxuan; Liu, Jun; Shi, Qiwei; Cai, Canying; Roux, Stéphane

    Journal: MICRON. 2026; Vol. 204, Issue , pp. -. DOI: 10.1016/j.micron.2026.104025

  • Monte Carlo simulation of secondary electron emission in TixNy based on first principle calculatio

    Author: Yan, Runqi; Zhai, Yonggui; Wang, Hongguang; Li, Yongdong; Cao, Meng

    Journal: MICRON. 2026; Vol. 203, Issue , pp. -. DOI: 10.1016/j.micron.2026.103994

  • The morphology of male accessory glands in the Glenea cantor (Fabricius, 1787) (Coleoptera: Cerambycidae: Lamiinae

    Author: Tan, Hui-Xin; Gao, Qiong-Hua; Tong, Xin

    Journal: MICRON. 2026; Vol. 203, Issue , pp. -. DOI: 10.1016/j.micron.2026.103999

  • Widening effect of SICM topography measurement based on electrolyte concentration gradient with dual-barrel pipett

    Author: Wang, Zhiwu; Liao, Xiaobo; Zhuang, Jian; Qi, Qisong; Yuan, Yuan; Ning, Shaohui; Wang, Wenhao

    Journal: MICRON. 2026; Vol. 203, Issue , pp. -. DOI: 10.1016/j.micron.2026.104004

  • Image drift compensation in scanning electron microscopy facilitated by an external scanning and imaging syste

    Author: Liu, Ling'en; Zhang, Yixu; Wang, Ni; Tang, Liang; Yan, Chaoyang; Zhou, Jianli; Gao, Wenjie; Zhang, Yuefei; Lv, Junxia; Zhang, Ze

    Journal: MICRON. 2025; Vol. 196, Issue , pp. -. DOI: 10.1016/j.micron.2025.103848

  • Adaptive AFM image reconstruction through frequency coefficient selection based on block compressed sensin

    Author: Hu, Yifan; Li, Yingzi; Cheng, Peng; Lin, Rui; Qian, Jianqiang; Yuan, Quan; Chen, Yanan

    Journal: MICRON. 2025; Vol. 196, Issue , pp. -. DOI: 10.1016/j.micron.2025.103849

  • Self-aligned protective shield for preparing beam-sensitive MEMS-based chip samples using focused ion bea

    Author: Lu, Haozhe; Jin, Chuanhong

    Journal: MICRON. 2025; Vol. 196, Issue , pp. -. DOI: 10.1016/j.micron.2025.103863