Plasma Chemistry And Plasma Processing

Plasma Chemistry And Plasma Processing

等离子化学和等离子处理

  • 3区 中科院分区
  • Q1 JCR分区

期刊简介

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》是由Springer US出版社于1981年创办的英文国际期刊(ISSN: 0272-4324,E-ISSN: 1572-8986),该期刊长期致力于工程:化工领域的创新研究,主要研究方向为工程技术-工程:化工。作为SCI、SCIE收录期刊(JCR分区 Q1,中科院 3区),本刊采用OA未开放获取模式(OA占比%),以发表工程:化工领域等方向的原创性研究为核心(研究类文章占比91.36%%)。凭借严格的同行评审与高效编辑流程,期刊年载文量精选控制在81篇,确保学术质量与前沿性。成果覆盖Web of ScienceWeb of Science、Scopus等国际权威数据库,为学者提供推动物理与天体物理领域高水平交流平台。

投稿咨询

投稿提示

Plasma Chemistry And Plasma Processing审稿周期约为较慢,6-12周。该刊近年未被列入国际预警名单,年发文量约81篇,录用竞争适中,主题需确保紧密契合物理与天体物理前沿。投稿策略提示:避开学术会议旺季投稿以缩短周期,语言建议专业润色提升可读性。

  • 物理与天体物理 大类学科
  • English 出版语言
  • 是否预警
  • SCI、SCIE 期刊收录
  • 81 发文量

中科院分区

《新锐期刊分区表》(2026年3月发布)

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
物理与天体物理
3区
ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体
3区 3区 3区

期刊分区表(2025年3月升级版)

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
物理与天体物理
3区
ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体
3区 3区 3区

期刊分区表(2023年12月升级版)

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
物理与天体物理
3区
ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体
3区 3区 3区

期刊分区表(2022年12月升级版)

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
工程技术
3区
PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:应用
2区 3区 3区

期刊分区表(2021年12月升级版)

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
工程技术
3区
ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体
3区 3区 3区

JCR分区

2025-2026年最新版

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q2 90 / 183

51.1

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 75 / 191

61

学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q1 7 / 43

84.9

学科:ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q2 71 / 183

61.48

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 72 / 191

62.57

学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 19 / 43

56.98

2024-2025年最新版

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q3 97 / 176

45.2

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 101 / 187

46.3

学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 13 / 41

69.5

学科:ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q2 69 / 176

61.08

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 77 / 187

59.09

学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 20 / 41

52.44

2023-2024年最新版

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q3 91 / 170

46.8

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 81 / 179

55

学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 12 / 40

71.3

学科:ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q2 55 / 171

68.13

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 69 / 179

61.73

学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 17 / 40

58.75

CiteScore(2026年6月最新版)

CiteScore SJR SNIP CiteScore 排名
CiteScore:5.9 SJR:0.585 SNIP:1.007
学科类别 分区 排名 百分位
大类:Physics and Astronomy 小类:Condensed Matter Physics Q2 115 / 446

74%

大类:Physics and Astronomy 小类:Surfaces, Coatings and Films Q2 41 / 141

71%

大类:Physics and Astronomy 小类:General Chemistry Q2 123 / 402

69%

大类:Physics and Astronomy 小类:General Chemical Engineering Q2 88 / 270

67%

期刊发文

  • A Pulse-Modulated Microwave Atmospheric Pressure Plasma Jet and its Applications in Polymer Modification

    Author: Zhang, Dai; Zou, Daopeng; Guo, Ruilin; Huang, Yaoyao; Chang, Xijiang; Wu, Zhonghang; Xiong, Zilan

    Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2026; Vol. 46, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1007/s11090-026-10664-6

  • Two-Dimensional Simulation of the Discharge Characteristics of He Atmospheric Pressure Plasma Jet Arra

    Author: Wang, Lijun; Liu, Junxian; Shi, Qinghua; Han, Zhongji; Zhao, Huan

    Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2026; Vol. 46, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1007/s11090-026-10662-8

  • Study on Plasma Drying of Expandable Graphite and Influencing Factor

    Author: Liu, Fei; Yu, Zhe; Zhang, Xiaochuan; Chen, Long; Song, Chunlian; Duan, Ping

    Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2026; Vol. 46, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1007/s11090-026-10659-3

  • Influence of Particle Distribution on CO2 Dissociation and Discharge Behavior in a Fluidized-Bed DBD Reacto

    Author: Maina, Francis; Kobayashi, Nobusuke; Masumbuko, Robert; Suami, Akira; Zhang, Baiqiang

    Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2026; Vol. 46, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1007/s11090-026-10658-4

  • The Effects of Trace H2O on the Corona Discharge Decomposition of C5F10O/N2 Mixtures with Electron Attachment Mass Spectrometry Detectio

    Author: Gao, Qingqing; Xiao, Yafan; Miao, Jiale; Wang, Xiaohua; Chen, Qiang; Yang, Aijun

    Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2026; Vol. 46, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1007/s11090-026-10651-x

  • Novel Pulsed AC-Driven Atmospheric-Pressure Dielectric Barrier Discharge: Achieving Ultra-High Energy Efficiency in Ozone Synthesi

    Author: Zhou, Xiong-Feng; Dai, Jing; Liu, Kun

    Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2026; Vol. 46, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1007/s11090-026-10652-w

  • Plasma Effect on Germination and Physicochemical Properties of Moist Wheat Grai

    Author: Yuan, Shuning; Hu, Yu; Wang, Bo; Lv, Tian; Jiang, Hao

    Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2026; Vol. 46, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1007/s11090-025-10612-w

  • Plasma Vitrification of Waste Incineration Fly Ash: A Revie

    Author: Xue, Zhiliang; Du, Zhaohui; Zhang, Hao; Li, Pei; Du, Changming

    Journal: PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING. 2026; Vol. 46, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1007/s11090-025-10620-w