Nanoscale Research Letters

Nanoscale Research Letters

纳米级研究快报

  • 3区 中科院分区
  • Q1 JCR分区

期刊简介

《Nanoscale Research Letters》是由Springer US出版社于2006年创办的英文国际期刊(ISSN: 1931-7573,E-ISSN: 1556-276X),该期刊长期致力于材料科学:综合领域的创新研究,主要研究方向为工程技术-材料科学:综合。作为SCIE收录期刊(JCR分区 Q1,中科院 3区),本刊采用OA开放获取模式(OA占比1%),以发表材料科学:综合领域等方向的原创性研究为核心(研究类文章占比0.00%%)。凭借严格的同行评审与高效编辑流程,期刊年载文量精选控制在0篇,确保学术质量与前沿性。成果覆盖Web of Science、Scopus等国际权威数据库,为学者提供推动材料科学领域高水平交流平台。

投稿咨询

投稿提示

Nanoscale Research Letters审稿周期约为约48 days, to first decision for reviewed manuscripts only; 30 days, to first decision for all manuscripts; 103 days, from submission to acceptance; 22 days, from acceptance to publication 约2.7个月 。该刊近年未被列入国际预警名单,年发文量约0篇,录用竞争适中,主题需确保紧密契合材料科学前沿。投稿策略提示:避开学术会议旺季投稿以缩短周期,语言建议专业润色提升可读性。

  • 材料科学 大类学科
  • English 出版语言
  • 是否预警
  • SCIE 期刊收录
  • 0 发文量

中科院分区

中科院 SCI 期刊分区 2023年12月升级版

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
材料科学
3区
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科学:综合 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技
3区 3区 4区

中科院 SCI 期刊分区 2022年12月升级版

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
材料科学
3区
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科学:综合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:应用
3区 3区 3区

JCR分区

按JIF指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q2 116 / 438

73.6%

学科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q2 44 / 140

68.9%

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q1 39 / 179

78.5%

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q2 147 / 438

66.55%

学科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q2 53 / 140

62.5%

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 55 / 179

69.55%

CiteScore

CiteScore SJR SNIP CiteScore 排名
CiteScore:15 SJR:1.016 SNIP:1.568
学科类别 分区 排名 百分位
大类:Physics and Astronomy 小类:Condensed Matter Physics Q1 14 / 434

96%

大类:Physics and Astronomy 小类:General Materials Science Q1 39 / 463

91%

期刊发文

  • Enhanced Reliability of a-IGZO TFTs with a Reduced Feature Size and a Clean Etch-Stopper Layer Structure.

    Author: Chung JM1,2, Wu F1, Jeong SW3, Kim JH2, Xiang Y4.

    Journal: Nanoscale Res Lett. 2019 May 16;14(1):165. doi: 10.1186/s11671-019-3001-3.

  • Highly Sensitive and Stable SERS Substrate Fabricated by Co-sputtering and Atomic Layer Deposition.

    Author: Yin G1,2, Bai S1,2, Tu X1, Li Z1,2, Zhang Y1,2, Wang W3, Lu J4, He D1,2.

    Journal: Nanoscale Res Lett. 2019 May 18;14(1):168. doi: 10.1186/s11671-019-2997-8.

  • Optical Performance of Top-Down Fabricated AlGaN Nanorod Arrays with Multi-Quantum Wells Embedded.

    Author: Ge S1, Dai J2, Gao N1, Lu S1, Li P1, Huang K3, Liu B4, Kang J1, Zhang R1,2, Zheng Y2.

    Journal: Nanoscale Res Lett. 2019 May 21;14(1):170. doi: 10.1186/s11671-019-3003-1.