Journal Of Micromechanics And Microengineering

Journal Of Micromechanics And Microengineering

微机械与微工程杂志

  • 4区 中科院分区
  • Q2 JCR分区

期刊简介

《Journal Of Micromechanics And Microengineering》是由IOP Publishing Ltd.出版社于1991年创办的英文国际期刊(ISSN: 0960-1317,E-ISSN: 1361-6439),该期刊长期致力于工程:电子与电气领域的创新研究,主要研究方向为工程技术-材料科学:综合。作为SCI、SCIE收录期刊(JCR分区 Q2,中科院 4区),本刊采用OA未开放获取模式(OA占比%),以发表工程:电子与电气领域等方向的原创性研究为核心(研究类文章占比96.25%%)。凭借严格的同行评审与高效编辑流程,期刊年载文量精选控制在160篇,确保学术质量与前沿性。成果覆盖Web of ScienceWeb of Science、Scopus等国际权威数据库,为学者提供推动工程技术领域高水平交流平台。

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投稿提示

Journal Of Micromechanics And Microengineering审稿周期约为约2.8个月。该刊近年未被列入国际预警名单,年发文量约160篇,录用竞争适中,主题需确保紧密契合工程技术前沿。投稿策略提示:避开学术会议旺季投稿以缩短周期,语言建议专业润色提升可读性。

  • 工程技术 大类学科
  • English 出版语言
  • 是否预警
  • SCI、SCIE 期刊收录
  • 160 发文量

中科院分区

《新锐期刊分区表》(2026年3月发布)

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
工程技术
4区
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 仪器仪表 PHYSICS, APPLIED 物理:应用
4区 4区 4区 4区

期刊分区表(2025年3月升级版)

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
工程技术
4区
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 仪器仪表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:应用
4区 4区 4区 4区

期刊分区表(2023年12月升级版)

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
工程技术
4区
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 仪器仪表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:应用
4区 4区 4区 4区

期刊分区表(2022年12月升级版)

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
工程技术
4区
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 仪器仪表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:应用
4区 4区 4区 4区

期刊分区表(2021年12月升级版)

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
工程技术
4区
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION 仪器仪表 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 纳米科技 PHYSICS, APPLIED 物理:应用
4区 4区 4区 4区

JCR分区

2025-2026年最新版

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 204 / 369

44.9

学科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q2 39 / 81

52.5

学科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 109 / 148

26.7

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 114 / 191

40.6

学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 226 / 371

39.22

学科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q3 50 / 81

38.89

学科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 93 / 148

37.5

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 118 / 191

38.48

2024-2025年最新版

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 214 / 368

42

学科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q3 43 / 79

46.2

学科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q4 116 / 147

21.4

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 123 / 187

34.5

学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 206 / 368

44.16

学科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q3 47 / 79

41.14

学科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 88 / 147

40.48

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 110 / 187

41.44

2023-2024年最新版

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 170 / 352

51.8

学科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q2 29 / 76

62.5

学科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 102 / 140

27.5

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 96 / 179

46.6

学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 200 / 354

43.64

学科:INSTRUMENTS & INSTRUMENTATION SCIE Q3 46 / 76

40.13

学科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q3 82 / 140

41.79

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 106 / 179

41.06

CiteScore(2026年6月最新版)

CiteScore SJR SNIP CiteScore 排名
CiteScore:4.4 SJR:0.454 SNIP:0.721
学科类别 分区 排名 百分位
大类:Engineering 小类:Electrical and Electronic Engineering Q2 362 / 1030

64%

大类:Engineering 小类:Mechanical Engineering Q2 262 / 740

64%

大类:Engineering 小类:Mechanics of Materials Q2 167 / 408

59%

大类:Engineering 小类:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q2 146 / 318

54%

期刊发文

  • Research on femtosecond laser direct writing-based thermally induced shrinkage proces

    Author: Xie, Yu; Liu, Yongkang; Chen, Jianxiong; Chen, Hui; Hong, Shujin

    Journal: JOURNAL OF MICROMECHANICS AND MICROENGINEERING. 2026; Vol. 36, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6439/ae4ef7

  • On-wafer compression test method with endogenous mechanical compensation mechanism for buckling behaviour and etching quality characterizatio

    Author: Chen, Yi; Zhang, Dacheng

    Journal: JOURNAL OF MICROMECHANICS AND MICROENGINEERING. 2026; Vol. 36, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6439/ae5666

  • A novel friction test device for nanoscale gap surfaces with sandwiched lubrican

    Author: Yagi, Wataru; Xia, Yuanlin; Tsuchiya, Toshiyuki; Yamashita, Naoki; Hirayama, Tomoko

    Journal: JOURNAL OF MICROMECHANICS AND MICROENGINEERING. 2026; Vol. 36, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6439/ae54a2

  • Fabrication and characterization of Cu/GO composite microcomponents via jet electrodepositio

    Author: Li, Aoxiang; Xi, Yuntao; Zhou, Bo; Lei, Yudong; Ren, Li; Pan, Bowei; Xie, Longfei; Wang, Tingli; Su, Bo

    Journal: JOURNAL OF MICROMECHANICS AND MICROENGINEERING. 2026; Vol. 36, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6439/ae597e

  • Heterogeneously integrated chain-type micro thermoelectric generator enabled by shared-via LTCC technolog

    Author: Tian, Xueqing; Chen, Qing; Niu, Xinrui; Xu, Jianren; Wei, Li; Dai, Bo; Zhang, Dawei; Di, Zhixiong; Wang, Ning

    Journal: JOURNAL OF MICROMECHANICS AND MICROENGINEERING. 2026; Vol. 36, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6439/ae54a1

  • An improved Bi-LSTM framework based on DWT-MTF-2DCNN for multi-condition temperature prediction in microchannel heat exchange

    Author: Su, Tianyi; Chen, Lei; Ma, Yuanyuan; Wu, Wenzhuo; Li, Jin

    Journal: JOURNAL OF MICROMECHANICS AND MICROENGINEERING. 2026; Vol. 36, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6439/ae4a31

  • Characteristic of LiNbO3 thin film ICP etching for micro/nano fabricatio

    Author: Huang, Yantao; Liu, Yushuai; Wu, Tao

    Journal: JOURNAL OF MICROMECHANICS AND MICROENGINEERING. 2026; Vol. 36, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6439/ae36b6

  • Temperature compensation of surface acoustic wave strain sensors on 122° X-cut lithium tantalate substrate at high temperature

    Author: Yang, Gaoshang; Wang, Yuexing; Yang, Zhengzhong; Sun, Xiangyu; Yao, Yao

    Journal: JOURNAL OF MICROMECHANICS AND MICROENGINEERING. 2026; Vol. 36, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6439/ae4e38