Journal Of Vacuum Science & Technology A投稿须知

期刊简介

《Journal Of Vacuum Science & Technology A》是由AVS Science and Technology Society出版社于1983年创办的英文国际期刊（ISSN: 0734-2101，E-ISSN: 1520-8559），该期刊长期致力于材料科学：膜领域的创新研究，主要研究方向为材料科学：膜-工程技术。作为SCIE收录期刊（JCR分区 Q3，中科院 3区），本刊采用OA未开放获取模式（OA占比0.2168...%），以发表材料科学：膜领域等方向的原创性研究为核心（研究类文章占比97.60%%）。凭借严格的同行评审与高效编辑流程，期刊年载文量精选控制在333篇，确保学术质量与前沿性。成果覆盖Web of Science、Scopus等国际权威数据库，为学者提供推动材料科学领域高水平交流平台。

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投稿提示

Journal Of Vacuum Science & Technology A审稿周期约为一般,3-6周。该刊近年未被列入国际预警名单，年发文量约333篇，录用竞争适中，主题需确保紧密契合材料科学前沿。投稿策略提示：避开学术会议旺季投稿以缩短周期，语言建议专业润色提升可读性。

材料科学 大类学科
English 出版语言
否是否预警
SCIE 期刊收录
333 发文量

中科院分区

中科院 SCI 期刊分区 2023年12月升级版

Top期刊	综述期刊	大类学科	小类学科
否	否	材料科学 3区	MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：应用 3区 3区

中科院 SCI 期刊分区 2022年12月升级版

Top期刊	综述期刊	大类学科	小类学科
否	否	材料科学 2区	MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科学：膜 PHYSICS, APPLIED 物理：应用 3区 3区

JCR分区

按JIF指标学科分区	收录子集	分区	排名	百分位
学科：MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS	SCIE	Q3	13 / 23	45.7%
学科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q3	96 / 179	46.6%

按JCI指标学科分区	收录子集	分区	排名	百分位
学科：MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS	SCIE	Q3	12 / 23	50%
学科：PHYSICS, APPLIED	SCIE	Q2	88 / 179	51.12%

CiteScore

SJR

SNIP

CiteScore 排名

CiteScore：5.1

SJR：0.569

SNIP：0.957

学科类别	分区	排名	百分位
大类：Physics and Astronomy 小类：Condensed Matter Physics	Q2	135 / 434	69%
大类：Physics and Astronomy 小类：Surfaces and Interfaces	Q2	19 / 57	67%
大类：Physics and Astronomy 小类：Surfaces, Coatings and Films	Q2	45 / 132	66%

期刊发文

Selectivity dependence of atomic layer deposited manganese oxide on the precursor ligands on platinum facets
Author: Lan, Yuxiao; Wen, Yanwei; Li, Yicheng; Yang, Jiaqiang; Cao, Kun; Shan, Bin; Chen, Rong

Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002173
Dynamic character of compositional sputter depth profiling by SIMS: A comparison of different models for quantitative profile evaluation
Author: Hofmann, Siegfried; Zhong, Feng-Min; Yang, Hao; Wang, Jiang-Yong; Xu, Cong-Kang

Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002233
Aluminum nitride crystal-based photodetector with bias polarity-dependent spectral selectivity
Author: Fan, Zelong; Qin, Zuoyan; Jin, Lei; Cao, Yuan; Yue, Zhongyu; Li, Baikui; Wu, Honglei; Sun, Zhenhua

Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1116/5.0133162
Effect of plasma nitriding substrate current density on the adhesion strength of in situ PVD TiN coatings
Author: Zhang, Xin; Tian, Xiu-bo; Gong, Chun-zhi; Liu, Xiang-li; Li, Jin

Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002353
Enhancement of discharge and mechanical properties of ta-C films by pulse-enhanced cathodic arc deposition
Author: Wang, Benfu; Tian, Xiubo; Hu, Jian; Gong, Chunzhi; Liu, Xiangli; Li, Jin

Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002352
Physical properties of Zn-Sn-N films governed by the Zn/(Zn plus Sn) ratio
Author: Ren, JunYan; Liang, LingYan; Liu, Xiaohan; Cao, Hongtao

Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002454
Method for extracting the intrinsic diffusion coefficient from grain boundary diffusion depth profile
Author: Lian, Songyou; Fourie, Antonie J.; Wang, Jiangyong; Swart, Hendrik C.; Terblans, Jacobus Johannes

Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002400
Interface-mediated ferroelectricity in PMN-PT/PZT flexible bilayer via pulsed laser deposition
Author: Chen, Rong; Qi, Zilian; Xiong, Yingfei; Li, Yicheng; Zhang, Xiaodong; Cao, Kun

Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002386

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