Semiconductor Science And Technology

Semiconductor Science And Technology

半导体科技

  • 4区 中科院分区
  • Q3 JCR分区

期刊简介

《Semiconductor Science And Technology》是由IOP Publishing Ltd.出版社于1986年创办的英文国际期刊(ISSN: 0268-1242,E-ISSN: 1361-6641),该期刊长期致力于工程:电子与电气领域的创新研究,主要研究方向为工程技术-材料科学:综合。作为SCI、SCIE收录期刊(JCR分区 Q3,中科院 4区),本刊采用OA未开放获取模式(OA占比%),以发表工程:电子与电气领域等方向的原创性研究为核心(研究类文章占比94.36%%)。凭借严格的同行评审与高效编辑流程,期刊年载文量精选控制在195篇,确保学术质量与前沿性。成果覆盖Web of ScienceWeb of Science、Scopus等国际权威数据库,为学者提供推动工程技术领域高水平交流平台。

投稿咨询

投稿提示

Semiconductor Science And Technology审稿周期约为一般,3-6周。该刊近年未被列入国际预警名单,年发文量约195篇,录用竞争适中,主题需确保紧密契合工程技术前沿。投稿策略提示:避开学术会议旺季投稿以缩短周期,语言建议专业润色提升可读性。

  • 工程技术 大类学科
  • English 出版语言
  • 是否预警
  • SCI、SCIE 期刊收录
  • 195 发文量

中科院分区

《新锐期刊分区表》(2026年3月发布)

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
工程技术
4区
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科学:综合 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚态物理
4区 4区 3区

期刊分区表(2025年3月升级版)

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
工程技术
4区
PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚态物理 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科学:综合
3区 4区 4区

期刊分区表(2023年12月升级版)

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
工程技术
4区
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科学:综合 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚态物理
4区 4区 4区

期刊分区表(2022年12月升级版)

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
工程技术
4区
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科学:综合 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚态物理
4区 4区 4区

期刊分区表(2021年12月升级版)

Top期刊 综述期刊 大类学科 小类学科
工程技术
4区
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科学:综合 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚态物理
4区 4区 4区

JCR分区

2025-2026年最新版

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 235 / 369

36.4

学科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q4 356 / 472

24.7

学科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q3 53 / 81

35.2

学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 266 / 371

28.44

学科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 344 / 473

27.38

学科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q3 51 / 81

37.65

2024-2025年最新版

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 214 / 368

42

学科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 318 / 461

31.1

学科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q3 50 / 80

38.1

学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 247 / 368

33.02

学科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 310 / 463

33.15

学科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q3 46 / 80

43.13

2023-2024年最新版

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 211 / 352

40.2

学科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 301 / 438

31.4

学科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q3 50 / 79

37.3

学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 238 / 354

32.91

学科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 293 / 438

33.22

学科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q3 51 / 79

36.08

CiteScore(2026年6月最新版)

CiteScore SJR SNIP CiteScore 排名
CiteScore:4.2 SJR:0.358 SNIP:0.612
学科类别 分区 排名 百分位
大类:Engineering 小类:Electrical and Electronic Engineering Q2 383 / 1030

62%

大类:Engineering 小类:Condensed Matter Physics Q2 199 / 446

55%

大类:Engineering 小类:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q2 156 / 318

51%

大类:Engineering 小类:Materials Chemistry Q3 170 / 327

48%

期刊发文

  • Bandgap engineering with carriers blocking in long-wavelength infrared photodiode

    Author: He, Linxuan; Wu, Tianxiang; Wang, Xi; Zhou, Songmin; Huang, Jian; Li, Xun; Gan, Zhikai; Lin, Chun; Zhu, Liqi

    Journal: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2026; Vol. 41, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6641/ae5683

  • An analytical unified extraction method for the distribution and relaxation time of trap states by capacitance-conductance-voltage characteristics in metal oxide TFT

    Author: Yu, Shunye; Li, Haoyang; Liu, Sai; Chen, Ruipeng; Liu, Jiajie; Xu, Miao; Wang, Lei; Wu, Weijing; Peng, Junbiao

    Journal: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2026; Vol. 41, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6641/ae57cf

  • A physics-based and accurate STI-LDMOS compact subcircuit model with modified drift region resistance and gate-drain capacitanc

    Author: Sun, Jing; Liu, DaQuan; Li, Hang; Qian, Wensheng; Yang, Jiye; Sun, Yabin; Ye, Bingyi; Zhang, Yuhang; Shen, Yang; Li, Xiaojin

    Journal: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2026; Vol. 41, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6641/ae5843

  • Progress in ε/κ-Ga2O3 growth and device

    Author: Gao, Yangyang; Wang, Yong; Xiong, Kaili; Song, Xiufeng; Li, Lin; Che, Deliang; Ma, Chengcheng

    Journal: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2026; Vol. 41, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6641/ae1756

  • Review of Ga2O3 x-ray detectors: from material properties to device application

    Author: Zeng, Liru; Zhang, Zeyulin; Liu, Dinghe; Chen, Hao; Zhang, Nan; Wang, Zhaobo; Feng, Qian; Zhou, Hong; Zhang, Yachao; Chen, Dazheng; Zhang, Jincheng; Zhang, Chunfu; Hao, Yue

    Journal: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2026; Vol. 41, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6641/ae55bf

  • A novel 1200 V SiC trench MOSFET based on superjunction and shielded gate technologies for reduced power los

    Author: Zhang, Xin; Cui, Pengfei; Liu, Qirui; Hu, Canbo; Wang, Dejun

    Journal: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2026; Vol. 41, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6641/ae5aca

  • Defect-extracted correlation analysis of field-effect mobility degradation in 4H-SiC MOSFET

    Author: Xia, Ziming; Li, Zehong; Xu, Zhishuo; Zhang, Xin; Zhang, Anna; Wang, Tongyang; Zheng, Yige; Jin, Zhaoqing; Zhao, Longjie; Xiao, Li; Cui, Yanyun; Wang, Xuan; Ren, Min

    Journal: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2026; Vol. 41, Issue 4, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6641/ae5acb

  • Impact of elevated temperatures on the switching characteristics of silicon carbide superfast ionization thyristor

    Author: Zhang, Hongwei; Pu, Hongbin; Zhang, Zhao; Wang, Xi

    Journal: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2026; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6641/ae4822