《Arkivoc》是由Arkat USA出版社于2000年创办的英文国际期刊（ISSN: 1551-7004，E-ISSN: 1551-7012），该期刊长期致力于有机化学领域的创新研究，主要研究方向为化学-有机化学。作为SCI、SCIE收录期刊（JCR分区 Q4，中科院 4区），本刊采用OA开放获取模式（OA占比1%），以发表有机化学领域等方向的原创性研究为核心（研究类文章占比84.48%%）。凭借严格的同行评审与高效编辑流程，期刊年载文量精选控制在58篇，确保学术质量与前沿性。成果覆盖Web of ScienceWeb of Science、Scopus等国际权威数据库，为学者提供推动化学领域高水平交流平台。
投稿咨询Arkivoc审稿周期约为约4.0个月。该刊近年未被列入国际预警名单，年发文量约58篇，录用竞争适中，主题需确保紧密契合化学前沿。投稿策略提示：避开学术会议旺季投稿以缩短周期，语言建议专业润色提升可读性。
《新锐期刊分区表》（2026年3月发布）
| Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 |
|---|---|---|---|
| 否 | 否 |
化学
4区
|
CHEMISTRY, ORGANIC
有机化学
4区
|
期刊分区表（2025年3月升级版）
| Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 |
|---|---|---|---|
| 否 | 否 |
化学
4区
|
CHEMISTRY, ORGANIC
有机化学
4区
|
期刊分区表（2023年12月升级版）
| Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 |
|---|---|---|---|
| 否 | 否 |
化学
4区
|
CHEMISTRY, ORGANIC
有机化学
4区
|
期刊分区表（2022年12月升级版）
| Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 |
|---|---|---|---|
| 否 | 否 |
化学
4区
|
CHEMISTRY, ORGANIC
有机化学
4区
|
期刊分区表（2021年12月升级版）
| Top期刊 | 综述期刊 | 大类学科 | 小类学科 |
|---|---|---|---|
| 否 | 否 |
化学
4区
|
CHEMISTRY, ORGANIC
有机化学
4区
|
2025-2026年最新版
| 按JCI指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
|---|---|---|---|---|
| 学科：CHEMISTRY, ORGANIC | SCIE | Q4 | 53 / 58 |
9.5 |
| 学科：CHEMISTRY, ORGANIC | SCIE | Q4 | 54 / 58 |
7.76 |
2024-2025年最新版
| 按JCI指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
|---|---|---|---|---|
| 学科：CHEMISTRY, ORGANIC | SCIE | Q4 | 52 / 57 |
9.6 |
| 学科：CHEMISTRY, ORGANIC | SCIE | Q4 | 52 / 57 |
9.65 |
2023-2024年最新版
| 按JCI指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
|---|---|---|---|---|
| 学科：CHEMISTRY, ORGANIC | SCIE | Q4 | 47 / 58 |
19.8 |
| 学科：CHEMISTRY, ORGANIC | SCIE | Q4 | 52 / 58 |
11.21 |
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 排名 | ||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| CiteScore：1.1 | SJR：0.156 | SNIP：0.195 |
|
Author: Chen, Zhuoran; Hu, Qi; Hu, Jiahao; Xu, Runsheng
Journal: ARKIVOC. 2026; Vol. , Issue , pp. -. DOI: 10.24820/ark.5550190.p012.510
Author: Teo, Qin Han; Chiu, Pauline
Journal: ARKIVOC. 2026; Vol. , Issue , pp. -. DOI: 10.24820/ark.5550190.p012.504
Author: Wang, Jie; Luo, Yang; Li, Xiaoqing; Xu, Xiangsheng
Journal: ARKIVOC. 2025; Vol. , Issue , pp. -. DOI: 10.24820/ark.5550190.p012.349
